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DS-2000/14G型光刻機

簡要描述:DS-2000/14G型光刻機該機可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作為光源,用DMD數(shù)字微鏡陣列替代傳統(tǒng)掩模板,采用積木 錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高均勻照明。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-06-04
  • 訪  問  量:2134

詳細介紹

品牌其他品牌價格區(qū)間面議
儀器種類微流控芯片系統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,電子
產(chǎn)品名稱:DS-2000/14G型光刻機
主要技術(shù)指標:
單次曝光面積:1.4mm×1mm;
大曝光基片:100mm ×100mm ;
對準精度:±0.8μm(半自動對準);
大膠厚:300μm(SU8膠);
自動逐場對焦;
分辨力:1μm;
X、Y、Z、θ四自由度電動位移臺 ;
X、Y平移重復(fù)定位精度:0.65μm(3σ);
Z向運動精度:1μm。
DS-2000/14G型光刻機技術(shù)特點:
該機可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作為光源,用DMD數(shù)字微鏡陣列替代傳統(tǒng)掩模板,采用積木 錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高均勻照明,并配備了雙目雙視顯微鏡和CCD圖象對準系統(tǒng)(可同時使用),拼接獲得大面積圖形,曝光設(shè)定采用微機控制,菜單界面友好,操作簡便。


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